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Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS Q0

期刊收录：
Scopus

基本信息

期刊ISSN：
1932-5150
期刊简拼：
J MICRO-NANOLITH MEM
年发文章数：
0
E-ISSN：
1932-5134
Gold OA文章占比
7.69%
研究文章占比：
0.00%
是否OA：
No
Jcr分区：
Q0
中科院分区：
2区

出版信息

出版商：
SPIE
涉及研究方向：
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
出版国家：
UNITED STATES
出版语言：
English
出版周期：
Quarterly
出版年份：
2007

2023-2024最新影响因子:0
自引率:N.A.
五年影响因子:0
JCI期刊引文指标:0
h-index:37
CiteScore:3.40

期刊关键词

0区 Scopus 物理与天体物理 2区 ENGINEERING ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 MATERIALS SCIENCE MULTIDISCIPLINARY 材料科学：综合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 OPTICS 光学

期刊简介

The Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS (JM3) publishes peer-reviewed papers on the science, development, and practice of lithographic, fabrication, packaging, and integration technologies necessary to address the needs of the electronics, microelectromechanical systems, micro-optoelectromechanical systems, and photonics industries.

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期刊信息

期刊投稿网址
https://jm3.msubmit.net/cgi-bin/main.plex

PubMed Central (PMC)链接
http://www.ncbi.nlm.nih.gov/nlmcatalog?term=1932-5150%5BISSN%5D

通讯地址
SPIE-SOC PHOTOPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS, 1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, USA, WA, 98225

中国科学院《国际期刊预警名单（试行）》名单
2024年02月发布的2024版：不在预警名单中
2023年01月发布的2023版：不在预警名单中
2021年12月发布的2021版：不在预警名单中
2020年12月发布的2020版：不在预警名单中
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审稿速度
收录数据库
是否oa
研究方向

较慢,6-12周
Scopus
No
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY

分区信息

中科院分区

大类学科
分区
小类学科
Top期刊
综述期刊

物理与天体物理
2区
ENGINEERING
ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：电子与电气
MATERIALS SCIENCE
MULTIDISCIPLINARY
材料科学：综合
NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
纳米科技
OPTICS
光学
否
否

WOS分区等级：0区

版本
按学科
分区
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