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Journal of Semiconductor Technology and Science

Journal of Semiconductor Technology and Science Q4

  • 期刊收录:
  • SCIE
  • Scopus
基本信息
  • 期刊ISSN:

    1598-1657

  • 期刊简拼:

    J SEMICOND TECH SCI

  • 年发文章数:

    37

  • E-ISSN:

  • Gold OA文章占比

    0.00%

  • 研究文章占比:

    97.30%

  • 是否OA:

    No

  • Jcr分区:

    Q4

  • 中科院分区:

    4区

出版信息
  • 出版商:

    Institute of Electronics Engineers of Korea

  • 涉及研究方向:

    ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-PHYSICS, APPLIED

  • 出版国家:

    SOUTH KOREA

  • 出版语言:

    English

  • 出版周期:

  • 出版年份:

  • 2023-2024最新影响因子:0.5
  • 自引率:20.00%
  • 五年影响因子:0.3
  • JCI期刊引文指标:0.1
  • h-index:15
  • CiteScore:0.90

期刊简介

Journal of Semiconductor Technology and Science is published to provide a forum for R&D people involved in every aspect of the integrated circuit technology, i.e., VLSI fabrication process technology, VLSI device technology, VLSI circuit design and other novel applications of this mass production technology. When IC was invented, these people worked together in one place. However, as the field of IC expanded, our individual knowledge became narrower, creating different branches in the technical society, which has made it more difficult to communicate as a whole. The fisherman, however, always knows that he can capture more fish at the border where warm and cold-water meet. Thus, we decided to go backwards gathering people involved in all VLSI technology in one place.

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期刊简写:J SEMICOND TECH SCI

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期刊信息

  • 期刊投稿网址
  • 通讯地址
  • RM #907 SCIENCE & TECHNOLOGY NEW BLDG, 635-4 YUCKSAM-DONG, SEOUL, SOUTH KOREA, KANGNAM-KU, 135-703
  • 中国科学院《国际期刊预警名单(试行)》名单
  • 2024年02月发布的2024版:不在预警名单中
    2023年01月发布的2023版:不在预警名单中
    2021年12月发布的2021版:不在预警名单中
    2020年12月发布的2020版:不在预警名单中
    此期刊被最新的JCR期刊SCIE收录
  • 审稿速度
  • 收录数据库
  • 是否oa
  • 研究方向
  • 较慢,6-12周
  • SCIE,Scopus
  • No
  • ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-PHYSICS, APPLIED

分区信息

中科院分区
  • 大类学科
  • 分区
  • 小类学科
  • Top期刊
  • 综述期刊
  • 工程技术
  • 4区
  • ENGINEERING
    ELECTRICAL & ELECTRONIC
    工程:电子与电气
    PHYSICS
    APPLIED
    物理:应用
WOS分区等级:4区
  • 版本
  • 按学科
  • 分区
  • 影响因子
  • WOS期刊SCI分(2023-2024年最新版)
  • ENGINEERING
    ELECTRICAL & ELECTRONIC
    PHYSICS
    APPLIED
  • Q4
  • 0.5
IF值(影响因子)趋势图
年发文量趋势图
自引率趋势图
中科院分区

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